低溫恒溫循環(huán)器的主要特點(diǎn)介紹

低溫恒溫反應(yīng)浴常應(yīng)用于對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等起到很大作用。

低溫恒溫循環(huán)器主要特點(diǎn)

●風(fēng)冷式高效全封閉制冷壓縮機(jī),降溫速度快。

●微機(jī)智能控制,溫度**溫度。

●數(shù)顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。

●溫度超溫保護(hù),自動(dòng)切斷電源并報(bào)警。

●制冷系統(tǒng)過熱、過流自動(dòng)保護(hù)。

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